|
Страница 13
Стр.1 |
Стр.2 |
Стр.3 |
Стр.4 |
Стр.5 |
Стр.6 |
Стр.7 |
Стр.8 |
Стр.9 |
Стр.10 |
Стр.11 |
Стр.12 |
Стр.13 |
Стр.14 |
Стр.15 |
Стр.16 |
Стр.17 |
Стр.18 |
Стр.19 |
Стр.20 |
Стр.21 |
Стр.22 |
Стр.23 |
Стр.24 |
Стр.25 |
Стр.26 |
Стр.27 |
Стр.28 |
Стр.29
компенсациями, равную 4,5 мкм или менее
(лучше) в соответствии с международным
стандартом ISO 230/2 (1997) или его
национальным эквивалентом; и
б) две или более оси, которые могут
быть совместно скоординированы для
контурного управления
Примечание. По пункту 2.2.1.1 не
контролируются токарные станки,
специально разработанные для
производства контактных линз.
2.2.1.2. Фрезерные станки, имеющие любую из 8459 31 000 0;
следующих характеристик: 8459 51 000 0;
а) имеющие все следующие 8459 61;
характеристики: 8464 90 800 0;
точность позиционирования вдоль любой 8465 92 000 0
линейной оси со всеми доступными
компенсациями, равную 4,5 мкм или
менее (лучше) в соответствии
с международным стандартом ISO 230/2
(1997) или его национальным
эквивалентом; и
три линейные оси плюс одну ось
вращения, которые могут быть совместно
скоординированы для контурного
управления;
б) пять или более осей, которые могут
быть совместно скоординированы для
контурного управления;
в) для координатно-расточных станков
точность позиционирования вдоль любой
линейной оси со всеми доступными
компенсациями, равную 3 мкм или менее
(лучше) в соответствии с международным
стандартом ISO 230/2 (1997) или его
национальным эквивалентом; или
г) станки с летучей фрезой, имеющие
все следующие характеристики:
биение шпинделя и эксцентриситет менее
(лучше) 0,0004 мм полного показания
индикатора (ППИ); и
повороты суппорта относительно трех
ортогональных осей меньше (лучше) двух
дуговых секунд ППИ на 300 мм
перемещения
2.2.1.3. Шлифовальные станки, имеющие любую из 8460 11 000 0;
следующих характеристик: 8460 19 000 0;
а) имеющие все следующие 8460 21;
характеристики: 8460 29;
точность позиционирования вдоль любой 8464 20 950 0;
линейной оси со всеми доступными 8465 93 000 0
компенсациями, равную 3 мкм или менее
(лучше) в соответствии с международным
стандартом ISO 230/2 (1997) или его
национальным эквивалентом; и
три или более оси, которые могут быть
совместно скоординированы для
контурного управления; или
б) пять или более осей, которые могут
быть совместно скоординированы для
контурного управления
Примечание. По пункту 2.2.1.3 не
контролируются следующие шлифовальные
станки:
а) круглошлифовальные,
внутришлифовальные и универсальные
шлифовальные станки, обладающие всеми
следующими характеристиками:
предназначенные лишь для круглого
шлифования; и
с максимально возможной длиной или
наружным диаметром обрабатываемой
детали 150 мм;
б) станки, специально разработанные
как координатно-шлифовальные и имеющие
любую из следующих характеристик:
C-ось используется для поддержания
шлифовального круга в положении по
нормали к обрабатываемой поверхности;
или
А-ось настроена на шлифование
барабанных кулачков;
в) плоскошлифовальные станки.
2.2.1.4. Станки для электроискровой обработки 8456 30
(СЭО) беспроволочного типа, имеющие
две или более оси вращения, которые
могут быть совместно скоординированы
для контурного управления
2.2.1.5. Станки для обработки металлов, 8424 30 900 0;
керамики или композиционных 8456 10;
материалов, имеющие все следующие 8456 99 800 0
характеристики:
а) обработка материалов осуществляется
любым из следующих способов:
струями воды или других жидкостей, в
том числе с абразивными присадками;
электронным лучом; или
лазерным лучом; и
б) имеющие две или более оси вращения,
которые:
могут быть совместно скоординированы
для контурного управления; и
имеют точность позиционирования менее
(лучше) 0,003°;
2.2.1.6. Сверлильные станки для сверления 8458;
глубоких отверстий или токарные 8459 21 000 0;
станки, модифицированные для сверления 8459 29 000 0
глубоких отверстий, обеспечивающие
максимальную глубину сверления
отверстий более 5000 мм и специально
разработанные для них компоненты
2.2.2. Станки с числовым программным 8461 40 710 0;
управлением или станки с ручным 8461 40 790 0
управлением и специально
предназначенные для них компоненты,
оборудование для контроля и
приспособления, специально
разработанные для шевингования,
финишной обработки, шлифования или
хонингования закаленных (Rc=40 или
более) прямозубых цилиндрических,
косозубых и шевронных шестерен
диаметром делительной окружности более
1250 мм и шириной зубчатого венца,
равной 15% от диаметра делительной
окружности или более, с качеством
после финишной обработки по классу 3 в
соответствии с международным
стандартом ISO 1328
2.2.3. Горячие изостатические прессы, имеющие 8462 99
все нижеперечисленное, и специально
разработанные для них компоненты и
приспособления:
а) камеры с регулируемыми
температурами внутри рабочей полости и
внутренним диаметром полости камеры
406 мм и более; и
б) любую из следующих характеристик:
максимальное рабочее давление выше
207 МПа;
регулируемые температуры выше 1773 К
(1500°С); или
оборудование для насыщения
углеводородом и удаления газообразных
продуктов разложения
Техническое примечание.
Внутренний размер камеры относится к
полости, в которой достигаются рабочие
давление и температура, при этом
исключаются установочные
приспособления. Указанный выше размер
будет наименьшим из двух размеров -
внутреннего диаметра камеры высокого
давления или внутреннего диаметра
изолированной высокотемпературной
камеры - в зависимости от того, какая
из этих камер находится в другой.
2.2.4. Оборудование, специально разработанное
для осаждения, обработки и активного
управления процессом нанесения
неорганических покрытий, слоев и
модификации поверхности (за
исключением формирования подложек для
электронных схем) с использованием
процессов, указанных в таблице к
пункту 2.5.3.6 и отмеченных в
примечаниях к ней, а также специально
разработанные для него
автоматизированные компоненты
установки, позиционирования,
манипулирования и регулирования:
2.2.4.1. Управляемое встроенной программой 8419 89 989 0
производственное оборудование для
химического осаждения из паровой фазы
(CVD), имеющее все нижеследующее:
а) процесс, модифицированный для
реализации одного из следующих методов:
CVD с пульсирующим режимом;
термического осаждения с управляемым
образованием центров кристаллизации
(CNTD); или
CVD с применением плазменного разряда,
модифицирующего процесс; и
б) включающее любое из следующего:
высоковакуумные (вакуум, равный
0,01 Па или ниже (лучше) вращающиеся
уплотнения; или
средства регулирования толщины
покрытия в процессе осаждения
2.2.4.2. Управляемое встроенной программой 8543 19 000 0
производственное оборудование ионной
имплантации с током пучка 5 мА или
более
2.2.4.3. Управляемое встроенной программой 8543 89 950 0
технологическое оборудование для
физического осаждения из паровой фазы,
получаемой нагревом электронным пучком
(EB-PVD), включающее силовые системы с
расчетной мощностью более 80 кВт и
имеющее любую из следующих
составляющих:
а) лазерную систему управления уровнем
жидкой ванны, которая точно регулирует
скорость подачи заготовок; или
б) управляемое компьютером
контрольно-измерительное устройство,
работающее на принципе
фотолюминесценции ионизированных
атомов в потоке пара, необходимое для
управления скоростью осаждения
покрытия, содержащего два или более
элемента
2.2.4.4. Управляемое встроенной программой 8419 89 300 0;
производственное оборудование 8419 89 98
плазменного напыления, обладающее
любой из следующих характеристик:
а) работающее при пониженном давлении
контролируемой атмосферы (равном или
ниже 10 кПа, измеряемом на расстоянии
до 300 мм над выходным сечением сопла
плазменной горелки) в вакуумной
камере, которая перед началом процесса
напыления может быть откачана до
0,01 Па; или
б) включающее средства регулирования
толщины покрытия в процессе напыления
2.2.4.5. Управляемое встроенной программой 8419 89 300 0;
производственное оборудование 8419 89 98
осаждения распылением, обеспечивающее
плотность тока 0,1 мА/кв.мм или более,
со скоростью осаждения 15 мкм/ч или
более
2.2.4.6. Управляемое встроенной программой 8543 89 950 0
производственное оборудование
катодно-дугового напыления, включающее
систему электромагнитов для управления
положением активного пятна дуги на
катоде
2.2.4.7. Управляемое встроенной программой 8543 89 950 0
производственное оборудование ионного
осаждения, позволяющее осуществлять в
процессе:
а) измерение толщины покрытия на
подложке и управление скоростью
осаждения; или
б) измерение оптических характеристик
Примечание. По пунктам 2.2.4.1,
2.2.4.2, 2.2.4.5-2.2.4.7 не
контролируется оборудование
химического осаждения из паровой фазы
(CVD), катодно-дугового напыления,
осаждения распылением, ионного
осаждения или ионной имплантации,
специально разработанное для покрытия
режущего или обрабатывающего
инструмента.
2.2.5. Системы и оборудование для измерения
или контроля размеров:
2.2.5.1. Координатно-измерительные машины (КИМ) 9031 80 320 0;
с компьютерным управлением, числовым 9031 80 340 0
программным управлением или
управляемые встроенной программой,
имеющие максимально допустимую
погрешность показания (МДПП) по любому
направлению в трехмерном пространстве
в любой точке в пределах рабочего
диапазона машины (то есть в пределах
длины осей), равную или меньше (лучше)
(1,7 + L/1000) мкм (L - измеряемая
длина в миллиметрах), определенную в
соответствии с международным
стандартом ISO 10360-2 (2001)
2.2.5.2. Приборы для измерения линейных или
угловых перемещений:
2.2.5.2.1. Приборы для измерения линейных 9031 49 000 0;
перемещений, имеющие любую из 9031 80 320 0;
следующих составляющих: 9031 80 340 0;
а) измерительные системы 9031 80 910 0
бесконтактного типа с разрешением,
равным или меньше (лучше) 0,2 мкм, при
диапазоне измерений до 0,2 мм;
б) системы с индуктивными
дифференциальными датчиками, имеющие
все следующие характеристики:
линейность, равную или меньше (лучше)
0,1%, в диапазоне измерений до 5 мм; и
дрейф, равный или меньше (лучше) 0,1%
в день, при стандартной комнатной
температуре +-1 К; или
в) измерительные системы, имеющие все
следующие составляющие:
содержащие лазер; и
сохраняющие в течение по крайней мере
12 часов при колебаниях окружающей
температуры +-1 К относительно
стандартной температуры и нормальном
атмосферном давлении все следующие
характеристики:
разрешение на полной шкале 0,1 мкм или
меньше (лучше); и
погрешность измерения, равную или
меньше (лучше) (0,2 + L/2000) мкм (L -
измеряемая длина в миллиметрах)
Примечание. По пункту 2.2.5.2.1 не
контролируются измерительные
интерферометрические системы без
обратной связи с замкнутым или
открытым контуром, содержащие лазер
для измерения погрешностей перемещения
подвижных частей станков, приборов для
измерения размеров или другого
подобного оборудования.
Техническое примечание.
Для целей пункта 2.2.5.2.1 линейное
перемещение означает изменение
расстояния между измеряющим элементом
и контролируемым объектом.
2.2.5.2.2. Приборы для измерения угловых 9031 49 000 0;
перемещений с погрешностью измерения 9031 80 320 0;
по угловой координате, равной или 9031 80 340 0;
меньше (лучше) 0,00025° 9031 80 910 0
Примечание. По пункту 2.2.5.2.2 не
контролируются оптические приборы,
такие, как автоколлиматоры,
использующие коллимированный свет для
фиксации углового смещения зеркала.
2.2.5.3. Оборудование для измерения чистоты 9031 49 000 0
поверхности с применением оптического
рассеяния как функции угла с
чувствительностью 0,5 нм или менее
(лучше)
Примечание. Станки, которые могут быть
использованы в качестве средств
измерения, подлежат контролю, если их
параметры соответствуют или
превосходят критерии, установленные
для параметров станков или
измерительных приборов.
2.2.6. Роботы, имеющие любую из 8479 50 000 0;
нижеперечисленных характеристик, и 8537 10 100 0;
специально разработанные для них 8537 10 910 0;
устройства управления и рабочие 8537 10 990 0
органы:
а) способность в реальном масштабе
времени осуществлять полную трехмерную
обработку изображений или полный
трехмерный анализ сцены
с генерированием или модификацией
программ либо с генерированием или
модификацией данных для числового
программного управления;
Техническое примечание.
Ограничения по анализу сцены
не включают аппроксимацию третьего
измерения по результатам наблюдения
под заданным углом или ограниченную
черно-белую интерпретацию восприятия
глубины или текстуры для утвержденных
заданий (2 1/2 D).
б) специально разработанные в
соответствии с национальными
стандартами безопасности применительно
к условиям работы со взрывчатыми
веществами военного назначения;
в) специально разработанные или
оцениваемые как радиационностойкие,
выдерживающие более 5 х 10**3 Гр (Si)
[5 х 10**5 рад] без ухудшения
эксплуатационных характеристик; или
г) специально разработанные для работы
на высотах, превышающих 30000 м
2.2.7. Узлы или блоки, специально
разработанные для станков, или системы
для контроля или измерения размеров:
2.2.7.1. Линейные измерительные элементы 9031
обратной связи (например, устройства
индуктивного типа, калиброванные
шкалы, инфракрасные системы или
лазерные системы), имеющие полную
точность менее (лучше)
[800 + (600 х L х 10**3) нм (L -
эффективная длина в миллиметрах)
Особое примечание.
Для лазерных систем применяется также
примечание к пункту 2.2.5.2.1.
2.2.7.2. Угловые измерительные элементы 9031
обратной связи (например, устройства
индуктивного типа, калиброванные
шкалы, инфракрасные системы или
лазерные системы), имеющие точность
менее (лучше) 0,00025°
Особое примечание.
Для лазерных систем применяется также
примечание к пункту 2.2.5.2.1.
2.2.7.3. Составные поворотные столы или 8466
качающиеся шпиндели, применение
которых в соответствии с техническими
характеристиками изготовителя может
модифицировать станки до уровня,
указанного в пункте 2.2, или выше
2.2.8. Обкатные вальцовочные и гибочные 8462 21 100 0;
станки, которые в соответствии с 8462 21 800 0;
технической документацией 8463 90 000 0
производителя могут быть оборудованы
блоками числового программного
управления или компьютерным
управлением и которые имеют все
следующие характеристики:
а) две или более контролируемые оси,
по крайней мере две из которых могут
быть одновременно скоординированы для
контурного управления; и
б) усилие на ролике более 60 кН
Техническое примечание.
Станки, объединяющие функции обкатных
вальцовочных и гибочных станков,
рассматриваются для целей пункта 2.2.8
как относящиеся к гибочным станкам.
2.3. Материалы - нет
2.4. Программное обеспечение
2.4.1. Программное обеспечение иное, чем
контролируемое по пункту 2.4.2,
специально разработанное или
модифицированное для разработки,
производства или применения
оборудования, контролируемого по
пункту 2.1 или 2.2
2.4.2. Программное обеспечение для
электронных устройств, в том числе
встроенное в электронное устройство
или систему, дающее возможность таким
устройствам или системам
функционировать как блок ЧПУ,
способный координировать одновременно
более четырех осей для контурного
управления
Примечание. По пункту 2.4.2 не
контролируется программное
обеспечение, специально разработанное
или модифицированное для работы
станков, не контролируемых по пунктам
категории 2.
Особое примечание.
В отношении программного обеспечения,
указанного в пункте 2.4.1, см. также
пункт 2.4.1 раздела 2.
2.5. Технология
2.5.1. Технологии в соответствии с общим
технологическим примечанием для
разработки оборудования или
программного обеспечения,
контролируемых по пункту 2.1, 2.2 или
2.4
2.5.2. Технологии в соответствии с общим
технологическим примечанием для
производства оборудования,
контролируемого по пункту 2.1 или 2.2
Особое примечание.
В отношении технологий, указанных
в пунктах 2.5.1 и 2.5.2, см. также
пункт 2.5.1 раздела 2.
2.5.3. Иные нижеследующие технологии:
2.5.3.1. Технологии для разработки
интерактивной графики как встроенной
части блока числового программного
управления для подготовки или
модификации программ обработки деталей
2.5.3.2. Технологии для производственных
процессов металлообработки:
2.5.3.2.1. Технологии для проектирования
инструмента, пресс-форм или зажимных
приспособлений, специально
разработанные для любого из следующих
процессов:
а) формообразования в условиях
сверхпластичности;
б) диффузионной сварки; или
в) гидравлического прессования прямого
действия
2.5.3.2.2. Технические данные, включающие
описание технологического процесса или
его параметры:
а) для формообразования в условиях
сверхпластичности изделий из
алюминиевых, титановых сплавов или
суперсплавов:
подготовка поверхности;
скорость деформации;
температура;
давление;
б) для диффузионной сварки титановых
сплавов или суперсплавов:
подготовка поверхности;
температура;
давление;
в) для гидравлического прессования
прямого действия алюминиевых или
титановых сплавов:
давление;
время цикла;
г) для горячего изостатического
уплотнения титановых, алюминиевых
сплавов или суперсплавов:
температура;
давление;
время цикла
2.5.3.3. Технологии для разработки или
производства гидравлических прессов
для штамповки с вытяжкой и
соответствующих матриц для
изготовления конструкций корпусов
летательных аппаратов
2.5.3.4. Технологии для разработки генераторов
машинных команд для управления станком
(например, программ обработки деталей)
на основе проектных данных, хранимых в
блоках числового программного
управления
2.5.3.5. Технологии для разработки комплексного
программного обеспечения для включения
экспертных систем, повышающих в
заводских условиях операционные
возможности блоков числового
программного управления
2.5.3.6. Технологии для осаждения, обработки и
активного управления процессом
нанесения внешних слоев неорганических
покрытий, иных покрытий и модификации
поверхности (за исключением
формирования подложек для электронных
схем) с использованием процессов,
указанных в таблице к настоящему
пункту и примечаниях к ней
Особое примечание.
Нижеследующая таблица определяет,
что технология конкретного процесса
нанесения покрытия подлежит экспортному
контролю только при указанных в ней
сочетаниях позиций в колонках
"Получаемое покрытие" и "Подложки".
Например, подлежат контролю технические
характеристики процесса нанесения
силицидного покрытия методом
химического осаждения из паровой фазы
(CVD) на подложки из углерод-углерода
и композиционных материалов с
керамической или металлической
матрицей. Однако, если подложка
выполнена из металлокерамического
карбида вольфрама (16) или карбида
кремния (18), контроль не требуется,
так как во втором случае получаемое
покрытие не указано в соответствующей
колонке для этих подложек
(металлокерамический карбид вольфрама
и карбид кремния).
Таблица к пункту 2.5.3.6
Технические приемы нанесения покрытий
---------------T-----------------------------T----------------------
Процесс ¦ ¦
нанесения ¦ Подложки ¦ Получаемое покрытие
покрытия (1)* ¦ ¦
---------------+-----------------------------+----------------------
______________________________
*См. пункт примечаний к данной таблице, соответствующий
указанному в скобках.
1. Химическое суперсплавы алюминиды
осаждение из на поверхности
паровой фазы внутренних каналов
(CVD)
керамика (19) и стекла с силициды,
малым коэффициентом линейного карбиды,
расширения (14) диэлектрические
слои (15),
алмаз,
алмазоподобный
углерод (17)
углерод-углерод, силициды,
композиционные материалы с карбиды,
керамической или тугоплавкие металлы,
металлической матрицей смеси перечисленных
выше материалов (4),
диэлектрические
слои (15),
алюминиды,
сплавы на основе
алюминидов (2),
нитрид бора
металлокерамический карбид карбиды,
вольфрама (16), карбид вольфрам,
кремния (18) смеси перечисленных
выше материалов (4),
диэлектрические
слои (15)
молибден и его сплавы диэлектрические
слои (15)
бериллий и его сплавы диэлектрические
слои (15),
алмаз,
алмазоподобный
углерод (17)
материалы окон датчиков (9) диэлектрические
слои (15),
алмаз,
алмазоподобный
углерод (17)
2. Физическое
осаждение из
паровой фазы,
получаемой
нагревом
2.1. Физическое суперсплавы сплавы на основе
осаждение из силицидов, сплавы
паровой фазы, на основе
полученной алюминидов (2),
нагревом MCrAlX (5),
электронным модифицированный
пучком диоксид циркония (12),
силициды,
алюминиды,
смеси перечисленных
выше материалов (4)
керамика (19) и стекла с диэлектрические
малым коэффициентом линейного слои (15)
расширения (14)
коррозионно-стойкие стали (7) MCrAlX (5),
модифицированный
диоксид циркония (12),
смеси перечисленных
выше материалов (4)
углерод-углерод, силициды,
композиционные материалы с карбиды,
керамической или тугоплавкие металлы,
металлической матрицей смеси перечисленных
выше материалов (4),
диэлектрические
слои (15),
нитрид бора
металлокерамический карбид карбиды, вольфрам,
вольфрама (16), карбид смеси перечисленных
кремния (18) выше материалов (4),
диэлектрические
слои (15)
молибден и его сплавы диэлектрические
слои (15)
бериллий и его сплавы диэлектрические
слои (15),
бориды,
бериллий
материалы окон датчиков (9) диэлектрические
слои (15)
титановые сплавы (13) бориды,
нитриды
2.2. Ионно- керамика (19) и стекла с диэлектрические
ассистированное малым коэффициентом линейного слои (15),
физическое расширения (14) алмазоподобный углерод
осаждение из
паровой фазы, углерод-углерод, диэлектрические
полученной композиционные материалы слои (15)
резистивным с керамической или
нагревом металлической матрицей
(ионное
осаждение) металлокерамический карбид диэлектрические
вольфрама (16), карбид слои (15)
кремния (18)
молибден и его сплавы диэлектрические
слои (15)
бериллий и его сплавы диэлектрические
слои (15)
материалы окон датчиков (9) диэлектрические
слои (15),
алмазоподобный
углерод (17)
2.3. Физическое керамика (19) и стекла с силициды,
осаждение из малым коэффициентом линейного диэлектрические
паровой фазы, расширения (14) слои (15),
полученной алмазоподобный
лазерным углерод (17)
нагревом
углерод-углерод, диэлектрические
композиционные материалы слои (15)
с керамической или
металлической матрицей
металлокерамический карбид диэлектрические
вольфрама (16), карбид слои (15)
кремния (18)
молибден и его сплавы диэлектрические
слои (15)
бериллий и его сплавы диэлектрические
слои (15)
материалы окон датчиков (9) диэлектрические
слои (15),
алмазоподобный
углерод (17)
2.4. Физическое суперсплавы сплавы на основе
осаждение из силицидов,
паровой фазы, сплавы на основе
полученной алюминидов (2),
катодно-дуговым MCrAlX (5)
разрядом
полимеры (11) бориды,
и композиционные материалы карбиды,
с органической матрицей нитриды,
алмазоподобный
углерод (17)
3. Твердофазное углерод-углерод, силициды,
диффузионное композиционные материалы с карбиды,
насыщение (10) керамической или смеси перечисленных
металлической матрицей выше материалов (4)
титановые сплавы (13) силициды,
алюминиды,
сплавы на основе
алюминидов (2)
тугоплавкие металлы и силициды,
сплавы (8) оксиды
4. Плазменное суперсплавы MCrAlX (5),
напыление модифицированный
диоксид циркония (12),
смеси перечисленных
выше материалов (4),
истираемый
никель-графитовый
материал,
истираемый никель-
хром-алюминиевый
сплав,
истираемый
алюминиево-кремниевый
сплав, содержащий
полиэфир, сплавы на
основе алюминидов (2)
алюминиевые сплавы (6) MCrAlX (5),
модифицированный
диоксид циркония (12),
силициды,
смеси перечисленных
выше материалов (4)
тугоплавкие металлы и алюминиды,
сплавы (8) силициды,
карбиды
коррозионно-стойкие стали (7) MCrAlX (5),
модифицированный
диоксид циркония (12),
смеси перечисленных
выше материалов (4)
титановые сплавы (13) карбиды,
алюминиды,
силициды,
сплавы на основе
алюминидов (2),
истираемый
никель-графитовый
материал,
истираемый никель-
хром-алюминиевый
сплав,
истираемый
алюминиево-кремниевый
сплав, содержащий
полиэфир
5. Нанесение тугоплавкие металлы и оплавленные силициды,
шликера сплавы (8) оплавленные алюминиды
(кроме резистивных
нагревательных
элементов)
углерод-углерод, силициды,
композиционные материалы с карбиды,
керамической или смеси перечисленных
металлической матрицей выше материалов (4)
6. Осаждение суперсплавы сплавы на основе
распылением силицидов,
сплавы на основе
алюминидов (2),
алюминиды,
модифицированные
благородным
металлом (3),
MCrAlX (5),
модифицированный
диоксид циркония (12),
платина,
смеси перечисленных
выше материалов (4)
керамика (19) и стекла с силициды,
малым коэффициентом линейного платина,
расширения (14) смеси перечисленных
выше материалов (4),
диэлектрические
слои (15),
алмазоподобный
углерод (17)
титановые сплавы (13) бориды,
нитриды,
оксиды,
силициды,
алюминиды,
сплавы на основе
алюминидов (2),
карбиды
углерод-углерод, силициды,
композиционные материалы с карбиды,
керамической или тугоплавкие металлы,
металлической матрицей смеси перечисленных
выше материалов (4),
диэлектрические
слои (15),
нитрид бора
металлокерамический карбид карбиды,
вольфрама (16), карбид вольфрам,
кремния (18) смеси перечисленных
выше материалов (4),
диэлектрические
слои (15),
нитрид бора
молибден и его сплавы диэлектрические
слои (15)
бериллий и его сплавы бориды,
диэлектрические
слои (15),
бериллий
материалы окон датчиков (9) диэлектрические
слои (15),
алмазоподобный
углерод (17)
тугоплавкие металлы и алюминиды,
сплавы (8) силициды,
оксиды,
карбиды
7. Ионная высокотемпературные присадки хрома,
имплантация подшипниковые стали тантала или ниобия
титановые сплавы (13) бориды, нитриды
бериллий и его сплавы бориды
металлокерамический карбид карбиды, нитриды
вольфрама (16)
Примечания к таблице:
1. Термин "процесс нанесения покрытия" включает как нанесение
первоначального покрытия, так и ремонт, а также обновление
существующих покрытий.
2. Покрытие сплавами на основе алюминида включает одно- или
многоступенчатое нанесение покрытия, в котором элемент или элементы
осаждаются до или в процессе нанесения алюминидного покрытия, даже
если эти элементы наносятся с применением других процессов. Это,
однако, не включает многократное использование одношагового процесса
твердофазного диффузионного насыщения для получения легированных
алюминидов.
3. Покрытие алюминидом, модифицированным благородным металлом,
включает многошаговое нанесение покрытия, в котором слои
благородного металла или благородных металлов наносятся каким-либо
другим процессом до нанесения алюминидного покрытия.
4. Термин "смеси" означает материалы, полученные пропиткой,
материалы с изменяющимся по объему химическим составом, материалы,
полученные совместным осаждением, в том числе слоистые; при этом
смеси получаются в одном или нескольких процессах нанесения
покрытий, описанных в таблице.
5. MCrAlX соответствует сплаву покрытия, где М обозначает
кобальт, железо, никель или их комбинацию, Х - гафний, иттрий,
кремний, тантал в любом количестве или другие специально внесенные
добавки с их содержанием более 0,01% (по весу) в различных
пропорциях и комбинациях, кроме:
а) CoCrAlY-покрытий, содержащих менее 22% (по весу) хрома,
менее 7% (по весу) алюминия и менее 2% (по весу) иттрия;
б) CoCrAlY-покрытий, содержащих 22-24% (по весу) хрома, 10-12%
(по весу) алюминия и 0,5-0,7% (по весу) иттрия;
в) NiCrAlY-покрытий, содержащих 21-23% (по весу) хрома, 10-12%
(по весу) алюминия и 0,9-1,1% (по весу) иттрия.
6. Термин "алюминиевые сплавы" относится к сплавам с прочностью
при растяжении 190 МПа или выше при температуре 293 К (20°С).
7. Термин "коррозионно-стойкая сталь" означает сталь из серии
AISI-300 (AISI - American Iron and Steel Institute - Американский
институт железа и стали) или сталь соответствующего
национального стандарта.
8. Тугоплавкие металлы и сплавы включают следующие металлы и их
сплавы: ниобий, молибден, вольфрам и тантал.
9. Материалами окон датчиков являются: оксид алюминия
(поликристаллический), кремний, германий, сульфид цинка, селенид
цинка, арсенид галлия, алмаз, фосфид галлия, сапфир, а для окон
датчиков диаметром более 40 мм - фтористый цирконий и фтористый
гафний.
10. Технология одношагового процесса твердофазного
диффузионного насыщения сплошных аэродинамических поверхностей не
контролируется по категории 2.
11. Полимеры включают полиимиды, полиэфиры, полисульфиды,
поликарбонаты и полиуретаны.
12. Термин "модифицированный оксид циркония" означает оксид
циркония с добавками оксидов других металлов (таких, как оксиды
кальция, магния, иттрия, гафния, редкоземельных металлов) в целях
стабилизации определенных кристаллографических фаз и фазовых
составов. Покрытия - температурные барьеры из оксида циркония,
Стр.1 |
Стр.2 |
Стр.3 |
Стр.4 |
Стр.5 |
Стр.6 |
Стр.7 |
Стр.8 |
Стр.9 |
Стр.10 |
Стр.11 |
Стр.12 |
Стр.13 |
Стр.14 |
Стр.15 |
Стр.16 |
Стр.17 |
Стр.18 |
Стр.19 |
Стр.20 |
Стр.21 |
Стр.22 |
Стр.23 |
Стр.24 |
Стр.25 |
Стр.26 |
Стр.27 |
Стр.28 |
Стр.29
|
